学　术

　　人力资源部教师发展中心开展“名师讲堂”系列活动，定期邀请国内外知名专家学者、国家级教学名师等作专题报告，旨在加强广大师生的学术思想交流和碰撞，促进青年教师的成长，开拓学生视野。

　　“名师讲堂”第62期活动特别邀请我校发展战略咨询委员会委员、中国科学院院士、香港大学原校长、香港城市大学原校长郑耀宗教授主讲，欢迎广大师生参与。具体安排如下：

　　一、主　题：香港电子信息科学的发展与历史变迁

　　二、主讲人：中国科学院院士 郑耀宗 教授     

　　三、时　间：2017年4月6日（周四）16:20

　　四、地　点：清水河校区图书馆大型视听阅览室（光影厅）

　　五、主持人：微电子与固体电子学院　钱凌轩 副教授  

　　六、内容简介

　　郑耀宗院士曾于1989年至1996年任香港城市大学校长，1996年至2000年任香港大学校长，曾任第九、十届全国政协委员、香港特别行政区筹备委员会委员等，见证了电子信息技术与产业在香港的发展与变迁。报告中，郑耀宗院士将讲述微电子技术50年以来改变世界的历史，尤其着重介绍香港在20世纪70年代以后政府、社会、高校共同参与半导体产业和研究的发展经验，以及80年代后期开始辐射并带动大陆的电子信息产业发展的过程。时至今日，香港仍然是我国电子信息技术领先的地区，在新形势下如何促进电子信息产业的陆港合作，是当前我们保持创新驱动力的重要课题。

　　七、主讲人简介

　　郑耀宗，我国著名微电子学专家。原籍广东中山，生于香港。曾任香港城市大学校长、香港大学校长、教授。长期以来对金属－氧化硅－硅（MOS）系统及其器件物理和工艺技术进行了系统研究。发明了掺氯化氢硅氧化技术，解决了当时MOS器件和集成电路阈值电压漂移、不能稳定工作的难题，使MOS器件和电路的性能、可靠性和成品率大大提高。在国际上首先提出MOS反型层载流子表面粗糙度散射理论，在MOS集成电路进入深亚微米阶段后，这一机理已成为决定MOS反型层载流子迁移率的主要因素，这是对MOS器件物理的一大发展。他是较早开展氮化硅技术的研究者之一，在深亚微米器件模型研究工作中取得重要成果。1999年当选为中国科学院院士。

　　2016年，郑耀宗受聘为我校发展战略咨询委员会委员，任我校特聘讲席教授。

  八、主办单位：人力资源部教师发展中心

　　　　承办单位：微电子与固体电子学院

　　　　　　　　　　　　　　　　　  人力资源部教师发展中心

　　　　　　　　　　　　　　　　　　　  2017年4月1日